论坛邀请多位来自国内外的重要技术专家,包括鸿海研究院半导体所所长暨交大讲座教授郭浩中、之光半导体技术长陈升祐、西门子EDA顾问Vincent Lai、骏河精机经理游智闵,以及英国Wave Photonics执行长James Lee,共同探讨矽光子产业化的关键挑战与应用实务。
恩莱特科技总经理苏正宇表示,传统电气互连技术已难以应对高速与低延迟的资料传输需求,矽光子因具备高频宽、低能耗等优势,有望带来数量级的效能提升。「推动设计自动化与制造链整合,是迈向矽光子量产的关键。恩莱特将持续整合设计平台与制程伙伴,协助客户建立完整矽光子设计流程。」
恩莱特在论坛展示其代理的之光半导体开发之矽光子设计平台 PIC Studio,支援从电光共模模拟、封装参数分析,到PDK布局与DRC验证等完整设计流程,已获超过百家学研与商业单位采用。郭浩中指出:「这是目前最完整、最实用的光子设计软体之一,可大幅缩短设计周期并提高设计效率。」
同时,恩莱特亦介绍与西门子EDA的合作,整合其电子设计工具L-Edit与Photonics解决方案,协助IC设计工程师在熟悉的设计环境中快速导入光子元件设计与验证,加速团队跨域转型。针对制程良率与PDK建模优化,英国Wave Photonics则展示其AI驱动的PDK自动化技术,可快速因应制程变异、建立高良率元件库,提升量产稳定性。
恩莱特表示,矽光子技术要迈向真正的产业落地,不仅需要设计与制程的整合,更需紧密结合晶圆代工、封测、系统端等完整产业链。未来将与台湾各大晶圆与系统业者扩大合作,建立可量产的EPDA工作流程,强化客户在全球矽光市场的竞争力。随著国际矽光子市场规模预估年年攀升,恩莱特将持续深化技术布局,抢占下一波数位基础设施升级的重要契机。
