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台积电将采用辉达 cuLitho 运算式微影平台 彻底改变晶片制造方式

台积电将采用辉达 cuLitho 运算式微影平台 彻底改变晶片制造方式

【记者吕承哲/台北报导】辉达(NVIDIA)宣布,全球晶圆代工龙头台积电将采用NVIDIA cuLitho 运算式微影平台进行生产,以加速制造并突破下一代先进半导体晶片的物理极限。辉达说明,电路转移到矽片上的运算式微影是电脑晶片制程里的关键步骤,需要用到复杂的运算作业,当中涉及电磁物理、光化学、运算几何、迭代最佳化和分散式运算,典型的晶圆代工厂会专门设立大量的资料中心来进行这项运算,这也成为新的技术节点和电脑架构上市的瓶颈,NVIDIA cuLitho 将加速运算技术用于运算式微影领域。

辉达神助攻!台积电、新思携手 挑战2奈米以下晶片制造

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【记者吕承哲/综合报导】绘图晶片(GPU)大厂辉达(NVIDIA)从美国时间18日至21日举行2024 GTC大会(GPU Technology Conference),辉达表示,全球晶圆代工龙头台积电与电子设计自动化(EDA)软体商新思科技(Synopsys)采用了辉达「cuLitho」软体资料库在各自的软体、制造流程与系统整合,以加快晶片制造速度,并突破下一代的先进制程晶片的物理极限,包括2奈米以下的埃米制程晶片。

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